Material cerâmico do anel de foco de carboneto de silício
Material cerâmico de anel de focagem de carboneto de silício Com o desenvolvimento da tecnologia de semicondutores, a gravação a plasma tornou-se gradualmente uma tecnologia amplamente utilizada em processos de fabricação de semicondutores. O plasma gerado pela gravação a plasma é altamente corrosivo e também causará corrosão grave na cavidade da câmara do processo e



